■表面技術フォーラム優秀講演賞一覧
関西フォーラムでは,第2回大会より若手研究者の発表(発表年度当初に40才以下の方を対象)に対して,
優秀講演賞を選定し,表彰してまいりました。
第12回 関西表面技術フォーラム 優秀講演賞について
フォーラムでは,若手研究者・技術者・学生の発表を応援するため,例年優秀
講演の表彰を行っております.
第10回より,企業の技術者による技術講演セッションおよび
若手ポスターセッションを募集するとともに研究奨励賞
および優秀ポスター賞の表彰も新設いたしました。
審査対象は,発表申込み時の
登壇発表者となっております.
(本フォーラムの趣旨から,表彰対象は登壇発表者のみとさせていただきます.)
【優秀講演賞】
◎審査対象:40歳以下の優秀な発表者3名を表彰
1)発表の仕方
2)パワーポイントなどのプレゼンテーション資料(概要は含めない)
3)質疑応答
4)内容の新規性
5)学術的な意義(学術講演の場合)もしくは工業的な寄与(技術講演の場合)
【研究奨励賞・優秀ポスター賞】
◎審査対象:30歳以下の優秀な発表者合計5名を表彰
・研究奨励賞の審査基準は,優秀講演賞に準じる
・優秀ポスター賞の審査基準
1)ポスター
2)質疑応答
3)内容の新規性
4)学術的な意義(学術講演の場合)もしくは工業的な寄与(技術講演の場合)
過去の優秀講演賞の受賞者は下記のとおりです。若手研究者・技術者の方々の発表を応援します。
第12回関西表面技術フォーラム 2011年12月2日〜3日 京都大学 宇治おうばくプラザ |
1.優秀講演賞 3件 1 精密電鋳プロセスに対応したインバー合金電析膜の作製 (京都市産技研)◎山本貴代、永山富男、中村俊博、水谷 泰 2)環境調和型スペキュラム(CuSn)合金めっきの電析およびその耐変色性 (メテック北村*、京都市産技研**、大和化成研究所***、甲南大フロンティアサイエンス****) ◎佐藤基承*、中井庸司*、中村俊博**、永山富男**、山本貴代**、 水谷 泰**、河口桂子***、 北村慎吾***、縄舟秀美**** 3)低熱膨張インバー合金めっきによる高精細メッシュの作製及び物性評価 (大和電機工業*、京都市産技研**)◎野口 真*、名取勇太*、倉科 匡*、永山富男**、山本貴代**、 中村俊博**、水谷 泰** 2.研究奨励賞 2件 1)多孔質シリコンを鋳型とした表面増強ラマン散乱活性な金ナノロッドの作製 (京大エネ理工研)◎宮川竜平、Mohamed lassaad chourou、深見一弘、作花哲夫、尾形幸生 2)パルス電解によるTiO2表面の規則的ミクロ構造制御 (近畿大理工*、近畿大院**、近畿大リエゾンセ***) ◎山田崇弘*、八尾 佑**、堀川袷志***、 岩崎光伸*,**、野間直樹* 3.優秀ポスター発表賞 4件 1)多孔質シリコンへの金属めっき:親水・疎水化処理の影響 (京大エネ理工研) ◎幸田吏央、浦田智子、深見一弘、作花哲夫、尾形幸生 2)電鋳技術を適用した両面研磨用極薄キャリアの開発 (立命館大*、東京大**) 谷 泰弘*、◎村田順二*、宇田隆三*、楠本丈朗**、張 宇* 3)電解析出法による高延性を示すバルクナノ結晶Niの作製 (大阪府大工)◎松井 功、瀧川順庸、上杉徳照、東 健司 4)電析Co-Ni合金膜の構造と水素 〜硫酸浴と塩化物浴の比較〜 (兵庫県立大)◎山田一輝、福室直樹、八重真治、松田 均 |
第11回関西表面技術フォーラム (2009年12月1日〜2日 甲南大学 フロンティアサイエンス学部 ポートアイランドキャンパス |
1.優秀講演賞 3件 1 微細部品バレルめっきのくっつき改善 (株式会社友電舎) ○須古庸平,伊藤浩修,中本雅友,古川 宏,都 保 2) Fe2+を用いたCr6+排水の処理方法の確立 (フソー株式会社) 坂本 静 吉岡秀浩,戎 修士 3)湿式法によるNiナノ粒子分散ポリイミド樹脂の微細構造制御 (立命館大学大学院) ○藤岡大毅,池田慎吾,小島一男,松岡政夫 2.研究奨励賞 2件 1)PETフィルムへの高密着性めっき皮膜の形成 (大和電機工業) ○浅川大介,倉科 匡 2)クロムフリー黒色無機顔料の開発とその応用 (奥野製薬工業株式会社) ○蔭久輝彦,加東 隆,村橋浩一郎 3.優秀ポスター発表賞 3件 1)化学溶液析出法を用いたZnO系薄膜の形成 (豊橋技術科学大*,大阪市工研**) ○草野雄也*,笹野順司*,品川 勉**,井上光輝*,伊崎昌伸* 2)Ag錯体水溶液からの電気化学的プロセスによるAg2O薄膜の形成 (豊橋技術科学大学大学院) ○大畑達哉,笹野順司,井上光輝,伊崎昌伸 3シリコンに形成したメソ孔への貴金属置換析出 (京都大学エネルギー理工学研究所) ○宮川竜平,深見一弘,作花哲夫,尾形幸生 |
第11回関西表面技術フォーラム (2009年12月1日〜2日 甲南大学 フロンティアサイエンス学部 ポートアイランドキャンパス ) |
1.優秀講演賞 3件 1 微細部品バレルめっきのくっつき改善 (株式会社友電舎) ○須古庸平,伊藤浩修,中本雅友,古川 宏,都 保 2) Fe2+を用いたCr6+排水の処理方法の確立 (フソー株式会社) 坂本 静 吉岡秀浩,戎 修士 3)湿式法によるNiナノ粒子分散ポリイミド樹脂の微細構造制御 (立命館大学大学院) ○藤岡大毅,池田慎吾,小島一男,松岡政夫 2.研究奨励賞 2件 1)PETフィルムへの高密着性めっき皮膜の形成 (大和電機工業) ○浅川大介,倉科 匡 2)クロムフリー黒色無機顔料の開発とその応用 (奥野製薬工業株式会社) ○蔭久輝彦,加東 隆,村橋浩一郎 3.優秀ポスター発表賞 3件 1)化学溶液析出法を用いたZnO系薄膜の形成 (豊橋技術科学大*,大阪市工研**) ○草野雄也*,笹野順司*,品川 勉**,井上光輝*,伊崎昌伸* 2)Ag錯体水溶液からの電気化学的プロセスによるAg2O薄膜の形成 (豊橋技術科学大学大学院) ○大畑達哉,笹野順司,井上光輝,伊崎昌伸 3シリコンに形成したメソ孔への貴金属置換析出 (京都大学エネルギー理工学研究所) ○宮川竜平,深見一弘,作花哲夫,尾形幸生 |
第10回関西表面技術フォーラム (2008年12月2日〜3日 甲南大学先端生命工学研究所) |
1.優秀講演賞 3件 1)シリコンに形成したメソ孔への水溶液からの銅の電析 (京都大)◎深見一弘、田中祐輝、モハメド L. シュールー、作花哲夫、尾形幸生 2)パルス電解によるパターニング型HAp固着アノード酸化Ti厚膜材の作製 (近畿大理工)◎玉川泰裕、工藤浩棋、島田和季、岩崎光伸、伊藤征司郎、野間直樹 3)3価クロムめっき皮膜の耐食性に与える防錆処理の効果 (奥野製薬工業)◎中村 要、永峯伸吾、片山順一 2.研究奨励賞 2件 1)シリコンの金属援用HFエッチングにおけるPdの特異な挙動 (兵庫県立大)◎田代雅之、平野達也、福室直樹、八重真治、松田 均 2)黒色3価クロム化成皮膜外観に及ぼす亜鉛めっき電流密度の影響 (ムラタ)◎杉岡 恵 3.優秀ポスター発表賞 4件 1)金属錯体を用いた金属ナノ粒子/ポリマー複合薄膜の作製および微細構造制御 (甲南大理工)◎熊崎祥太、逢坂育代、赤松謙祐、縄舟秀美 2)混成電位制御によるCuナノ粒子の選択的析出 (京都大院工)◎中西英貴、八木俊介、市坪 哲、松原英一郎 3)陽極酸化処理によるAZ系マグネシウム合金の機械的性質の変化 (岡山理大*、岡山工技セ**、堀金属表面処理工業***) ◎中新茂樹*、引野修次*、金谷輝人*、村上浩二**、日野 実**、西條充司*** 4)水溶液電析法を用いたZnOナノ構造体の作製 (同志社大*、大阪市工研**)◎古橋啓太*、品川 勉**.*、千金正也**、稲葉 稔*、田坂明政* |
第9回関西表面技術フォーラム (2007年12月11日〜12日 近畿大学11月ホール小ホール) |
1.ENIGプロセスにおける無電解Ni-P皮膜中のP含有率とはんだ接合性 (奥野製薬工業) ◎鈴木宏明、田邉靖博、下地輝明、松浪卓史 2.Snめっきにおけるウィスカ成長とPbの抑制効果 (岡山県工技センター*、オーエム産業**、愛媛大***) ◎岡野雅子*、日野 実*、村上浩二*、水戸岡豊*、高見沢政男**、仲井清眞*** 3.還元拡散によるCu薄膜のCu-Sn合金化 (京都大院工) ◎伊藤 輝、邑瀬邦明、一井 崇、杉村博之 |
第8回関西表面技術フォーラム (2006年12月7日〜8日 近畿大学11月ホール小ホール) |
1.優秀講演賞 「構造化されたPtNi合金微粒子の作製」 (阪府産技研*、大阪府立大学**) ◎西村 崇*、森河 務*、横井昌幸*、井上博史** 2.優秀講演賞 「ITOナノ粒子ペーストによる透明導電性薄膜の回路形成」 (奥野製薬工業*、巴製作所**、阪市工研***) ◎竹村康孝*、古田晋也**、柏木行康***、山本真理***、中許昌美*** 3.優秀講演賞 「銅微細配線の形成を目的とするマイクロコンタクトプリンティングの応用」 (甲南大) ◎尾山祐斗、赤松謙祐、縄舟秀美 |
第7回関西表面技術フォーラム (2005年12月6日〜7日 立命館大学びわこ・草津キャンパス) |
1.最優秀講演賞 「工業用純アルミニウムへのジンケート処理と無電解ニッケル-リンめっき皮膜の密着性」 (岡山県工技センター)○村上浩二、日野実、平松実、(京大)長村光造、(岡山理科大)金谷輝人 2.優秀講演賞 「Fe-W合金めっき皮膜の熱特性」 (野村鍍金) ○濱田隆弘、石田幸平、池田篤美、(阪府産技研)中出卓男、森河務 「電解析出ZnOの電気的特性の評価」 (立命館大理工) ○大谷慎士氏、松岡政 |
第6回関西表面技術フォーラム (2004年12月7日〜8日 立命館大学びわこ・草津キャンパス) |
1.最優秀賞(電気鍍金研究会50周年記念賞) 「ABSアロイ系樹脂を用いたクロム酸エッチングフリーめっきと密着メカニズム」 (奥野製薬工業) ○長尾敏光,佐藤一也,徳田勇治,中岸 豊 2.優秀賞(学術講演) 「p型Cu2O膜の光誘起化学析出」 (同志社大院工,大阪市工研*,京大院工**) ○水野高太郎,稲葉稔,田坂明政 伊崎昌伸*,品川 勉*,千金正也*,邑瀬邦明**,粟倉泰弘** 3.優秀賞(技術講演) 「AZ91Dマグネシウム製品への導電性陽極酸化処理の開発」 (堀金属表面処理工業,岡山工技セ*,岡山理科大**) ○西條充司,日野 実*,平松 実*,村上浩二*,金谷輝人** |
第5回関西表面技術フォーラム (2003年12月3日〜4日 京都大学宇治キャンパス) |
1 クロムめっきにおけるアノード特性 (オテック株式会社) ○宮阪一郎,(阪府産技研)中出卓男,森河 務 2 Co(?U)化合物を還元剤とする中性無電解銅めっき浴の無隔膜電解再生 (甲南大学) ○森川祐司,赤松謙祐,縄舟秀美,(?渇t晶千躰技術開発センター)中村弘喜 3 ヒドラジンを還元剤とする無電解純ニッケルめっきの物性制御 (姫路工業大学) ○横山敦之,濱田隆弘,伊藤 潔,福室直樹,八重真治,松田 均 |
第4回関西表面技術フォーラム (2002年12月10日〜11日 京都大学宇治キャンパス) |
1 室温強磁性透明半導体の溶液化学的形成 (同志社大学工学部) ○瀧野敦史, 田坂明政,(大阪府立工専)藤田直幸,(大阪市工研) 伊崎昌伸 2 高反応性金ナノ粒子の合成とアミド結合形成による固体基板への固定化 (甲南大学理工学部) ○長谷川潤,池田慎吾,赤松謙祐,縄舟秀美,(神戸大学工学部)片山博之,小澤文幸 3 環境対応めっきプロセスについて (奥野製薬工業株式会社) ○今村真琴,岡田純,佐藤一也 |
第3回関西表面技術フォーラム (2001年12月4日〜5日 甲南大学) |
1 泳動電着法によるバインダーフリー炭素材料膜の作製とリチウム二次電池用負極への応用 (シャープ) ○宇井幸一 2 シリコン基板上への光アシストによるニッケル析出 (京大エネ研) ○笹野順司,作花哲夫,尾形幸生,(エアランゲン大)Patrik Schmuki 3 金属−酸化物同時電析法で作製したグラニュラ薄膜の構造と磁気特性 (大阪府立工専)森 雄介, ○藤田直幸,(大阪市工研) 伊崎昌伸,(豊橋技科大) 井上光輝 |
第2回関西表面技術フォーラム (2000年12月12月12日〜13日 甲南大学) |
1 ULSI銅微細配線の形成を目的としたコバルト(?U)化合物を還元剤とする中性無電解銅めっきの析出機構 (甲南大学理学部)○小幡雄一郎,縄舟秀美,水本省三,(松下テクノリサーチ)村上義樹 2 オゾンによるステンレス鋼の表面電荷特性の改質と易洗浄化処理 (岡山県工技セン)○福崎智司,浦野博水,竹原淳彦,平松実 3 低汚染型アクリルシリコン塗料の表面分析 (鐘淵化学工業) ○松尾陽一 |
(第2回関西表面技術フォーラムで創設)