「関西表面技術フォーラムに参加して」
大和電機工業
浅川　大介

この度は関西表面技術フォーラムにおいて、研究奨励賞を頂きまことにありがとうございました。
今回、初めて関西表面技フォーラムに参加させていただき、研究者の方々の最先端の研究発表を聴講することができ大変勉強になりました。さらに、自分の研究・開発
にとっても様々な知見を得ることができ、多くのヒントをいただきました。
また、若手研究者が多く、自分と同年代の方ばかりであったのでより大きな刺激を受けることができ励みになりました。
私は表面処理に携わって数年とまだ日が浅く、毎日悪戦苦闘を続けています。そんな中、今回のフォーラムにおいて発表することとなり、これまで検討を続けてきた
不導体上へのめっき皮膜の形成について発表させていただくこととしました。
本番までの期間はどのような内容にするか頭を抱える日々が続きましたが、会社の上司、先輩方から貴重な時間を割いてアドバイスを頂くことで、なんとか発表までこ
ぎつけることができ、無事に発表を終えることができました。
また、発表後はさまざまなご意見、ご質問を頂くことで、再考すべき課題点や、今後の新たな方向性が見えてきたように思います。
今回の発表を通じて多くのことを学ぶことができました。また、得がたい貴重な経験をすることで、自分も多少は成長できたのではないかと思っております。
今回の受賞を糧に更に研究開発を発展できるように精進してまいりたいと思います。
本当にありがとうございました。