■共催行事（過去の行事）

○特別講演会
　電気鍍金研究会ならびにウエットプロセス研究会と共催で、７〜８月に講演会・セミナーを開催しております。　

開催日
 行事名 場所 主な内容 参加者数
平成17年7月26〜27日　 電気鍍金研究会創立50周年セミナII 大阪鍍金会館 次世代めっき技術−表面技術におけるプロセス・イノベーション− 180名
平成16年7月28日
 電気鍍金研究会創立50周年セミナー 大阪鍍金会館 環境調和型めっき技術―表面技術におけるﾏﾃﾘｱﾙ･ｲﾉﾍﾞｰｼｮﾝ
　1.環境に調和するめっき技術の展望（ファイブ・イー研究所）榎本英彦
　2.鉛フリーはんだめっき（大阪市立工業研究所）藤原　裕
　3.環境調和型無電解めっき技術（甲南大学）縄舟秀美
　4.ｸﾛﾑﾒｯｷ･ﾆｯｹﾙﾒｯｷに代わるめっき技術（大阪府立産業技術総合研究所）森河　務
　5.クロメート処理に代わる化成処理（愛知県産業技術研究所）野口裕臣
　6.防汚性・抗菌性を目的としためっき技術（岡山県工業技術ｾﾝﾀｰ）平松　実
　7.めっきプロセスの環境適合化（大阪府立産業技術総合研究所）横井昌幸 　		 64名
平成15年7月29〜30日
 講演会 大阪鍍金会館 新たな展開が期待される表面技術・１
　1.微細配線形成におけるナノテクノロジーの応用（甲南大学） 縄舟秀美
　2.硫酸銅めっきによるビアフィリング技術（奥野製薬工業(株)） 松浪卓史
　3.接触めっきによるスズの析出とスズ合金皮膜の成長（大阪市立工業研究所）藤原　裕
　4.純ニッケルの無電解めっきプロセスおよび電解再生システム（(株)大和化成研究所）中尾誠一郎
　5.パルスYAGレーザによる無電解ニッケルめっきの析出（京都府中小企業総合センター）北垣　寛
　6.４級アンモニウムイミド型のイオン性液体からのマグネシウム合金電析（京都大学大学院）邑瀬邦明
　7.室温強磁性透明半導体の溶液化学的形成と電磁気的性質（大阪市立工業研究所）伊崎昌伸
　8.ニッケルめっき代替としてのスペキュラム(CuSn)合金の電析（京都市産業技術研究所工業技術センター）中村俊博
　9.界面構造制御による電析スズ皮膜からのウイスカー発生の抑制（石原薬品(株)）田村　康
　10．クロムフリー化成処理皮膜の作製条件の検討（大阪府立大学）古川直治
　11．セリウム化成処理による耐食性・耐酸化性改善（大阪市立工業研究所）小林靖之
　12．クロメート処理代替Zn-Ni-シリカ/ハイブリッドコーティングの開発（岡山県工業技術センター）日野　実(
 68名
平成13年7月31日〜8月1日
 講演会 大阪鍍金会館 環境に対応するめっき技術・２」研究報告会
　1.めっき液の低濃度化（榎本英彦）
　2.ニッケルめっきにおけるホウ素対策 （篠原長政）
　3.六価クロムを用いない工業用めっき（横井昌幸）
　4.環境を配慮したプラスチック上の新めっきプロセス（佐藤一也）
　5.チオール化合物を錯化剤及び還元剤とするノンシアン無電解金めっき（小幡恵吾）
　6.IS0による体質改善プログラム（清川　肇）
　7.めっき皮膜の抗菌性 （平松　実）
　8.TiO2微粒子複合めっきとその光触媒活性 （伊藤征四郎）
　9.電子部品の鉛フリー化の現状（潮　憲樹）
　10.鉛フリーはんだめっきの現状（内田　衛）　
　11.鉛フリーSn−Cu　はんだ合金めっき（梁田　勇）
　12.鉛フリーはんだめっきとしてのスズ−銀複合めっき（藤原　裕）		 117名
平成12年8月4日 講演会 甲南大学 鉛フリーはんだ接合に対応するめっき技術シンポジウム
　1.EUの取り組みとわが国の研究開発の最新状況（大阪大学）菅沼克昭
　2.鉛フリーはんだめっき技術の最新動向（甲南大学）縄舟秀美
　3.企業における鉛フリーはんだおよびめっき技術の取り組み（松下電子部品）中村　恒		 56名


○合同研究会
　　　社団法人日本表面科学会関西支部と共催で、合同研究会を１月に開催しております。

開催日
 合同研究会 場所 主な内容 参加者数
平成17年１月20日（木）
 第２回 神戸大学瀧川記念学術交流会館 電極表面の科学とナノテクノロジー
　1.ナノ構造界面の創製 （岐阜大学）箕浦秀樹 　
　2.表面電子状態の計算機シミュレーション（大阪大学）広瀬喜久治
　3.電子デバイスを支える材料・表面技術 （三洋電機）木山精一 　
　4.固液界面近傍の物性と構造 （神戸大学）出来成人 　
　5.固液界面における自己組織化構造形成 （大阪大学）中西周次 　
　6.化合物半導体の電気化学析出 （京都大学）粟倉泰弘 　		 117名
平成16年１月23日（金）
 第１回 神戸大学瀧川記念学術交流会館 ナノテクノロジーにおける表面・海面・成膜・配線
　1.微細配線形成におけるナノテクノロジーの応用 （甲南大学）縄舟秀美
　2.ナノメートル・ギャップの電極による分子の導電性評価（産業技術総合研究所大学）水谷　亘　他
　3.光学及び電子顕微鏡を用いた微所応力測定の確立 （京都工芸占位大学）Giuseppe Pezzotti　
　4.遷移金属/希土類金属ドープGaN磁製半導体の創製と評価 （大阪大学）朝日　一
　5.走査型プローブ顕微鏡による磁製薄膜の磁気ナノ物性 （大阪教育大）川越　毅
　6.GaAs表面を用いた高性能磁気センサーの開発（産業技術総合研究所）秋永広幸 　		 68名