■関西表面技術フォーラム優秀講演賞一覧


　関西表面技術フォーラムでは、第２回大会より若手研究者の発表（発表年度当初に40才以下の方を対象）に対して、
優秀講演賞を選定し、表彰してまいりました。

第20回　関西表面技術フォーラム　優秀講演賞について

　フォーラムでは、若手研究者・技術者・学生の発表を応援するため、
優秀講演、研究奨励賞および優秀ポスター発表賞の表彰を行っております。
また、電気鍍金研究会では、平成２７年の創立６０周年を記念して
フォーラムでの優れた製造現場技術の発表を応援するため、
｢めっき技術奨励賞｣を創設しました。

上記の審査対象は、発表申込み時の登壇発表者となっております。
（本フォーラムの趣旨から、表彰対象は登壇発表者のみとさせていただきます。）

【優秀講演賞】
　◎審査対象：40歳以下の優秀な発表者３名（予定）を表彰
　１）プレゼンテーション時の資料の完成度（要旨は含めない）
　２）発表の仕方
　３）質疑応答が的確にできたか？
　４）内容の新規性
　５）学術的な意義（学術講演の場合）もしくは工業的な寄与（技術講演の場合）

【研究奨励賞・優秀ポスター発表賞】
　◎審査対象：30歳以下の優秀な発表者合計5名（予定）を表彰
　・研究奨励賞の審査基準は、優秀講演賞に準じる(ただし、表彰人数は2名（予定）)
　・優秀ポスター発表賞の審査基準
　１）ポスターの完成度
　２）質疑応答が的確にできたか？
　３）内容の新規性
　４）学術的な意義（学術講演の場合）もしくは工業的な寄与（技術講演の場合）

【めっき技術奨励賞】
　◎審査対象：めっき等の製造現場の技術向上に直接関わる発表を行った優秀な発表者若干名を表彰
　１）プレゼンテーション時の資料の完成度（要旨は含めない）
　２）発表の仕方
　３）質疑応答が的確にできたか
　４）製造現場への寄与
過去の優秀講演賞の受賞者は下記のとおりです。若手研究者・技術者の方々の発表を応援します。

第20回関西表面技術フォーラム（2018年11月21日～22日 甲南大学ポートアイランドキャンパス）
  • 最優秀講演賞 1件
    1. 金属ナノ粒子@メソポーラスシリカ@多孔性金属錯体3層構造体の創製
      (甲南大)◎大橋卓史、鶴岡孝章、髙嶋洋平、赤松謙祐

  • 優秀講演賞 3件
    1. 貴金属ナノ粒子とレーザー誘起ブレークダウン分光を組み合わせた液体の高感度微量分析
      (兵庫県立大)◎島津佑輔、善積沙紀子、松本 歩、八重真治

    2. アルミニウム合金上のニッケルめっきに及ぼす熱処理の影響
      (三菱電機)◎谷垣剛司、兼松保行

    3. マグネシウムにおけるプラズマ陽極酸化処理技術
      (中金)◎徳安善太郎、大島裕一郎、寺西一明

  • 研究奨励賞 2件
    1. 濃厚塩化物水溶液を用いる三価クロム電析浴
      (京大)◎安達 謙、北田 敦、深見一弘、邑瀬邦明

    2. ミストCVD法によるMoO2薄膜成長
      (京大)◎股村雄也、池之上卓己、三宅正男、平藤哲司

  • 優秀ポスター発表賞 3件
    1. 電子線照射還元法による無電解めっき用触媒ナノ粒子の合成
      (阪大*、奥野製薬**)◎東宏誠*、清野智史*、北晃治**、永峯伸吾**、中川貴*、山本孝夫*

    2. 濃厚Zn(Tf2N)2水溶液からの金属亜鉛電析
      (京大院工)◎井口翔太、北田 敦、深見一弘、邑瀬邦明

    3. 金属イオンドープポリマー上での相互貫入型金属有機構造体の合成
      (甲南大)◎平尾翔也、濵上留帆、大橋卓史、髙嶋洋平、赤松謙祐、鶴岡孝章

  • めっき技術奨励賞 2件
    1. 酸性浴Zn-Ni-SiO2複合めっきによる防錆膜
      (奥野製薬*、広島工大**)◎野崎匡文*、長尾敏光*、片山順一*、日野 実**

    2. 研磨加工面と旋盤加工面における硬質クロムめっきのざらつき発生条件
      (エフテックス*、広島市産業振興センター**、大阪技術研***)
      ○大杉 健*、前田英明*、田中善文*、倉本英哲**、中出卓男***
第19回関西表面技術フォーラム（2017年11月16日～17日 甲南大学ポートアイランドキャンパス）
  • 優秀講演賞 3件
    1. 酸化チタンナノ珊瑚基板を用いた表面支援レーザー脱離イオン化質量分析法の開発
      (近畿大院*、近畿大**) ○中村吉宏*、副島哲朗**

    2. チャンネル型微細溝を有する硬質膜のトライボロジー特性
      (大阪技術研*、オテック**) ○小畠淳平*、中出卓男*、原野知己**、森本泰行**

    3. Al合金上への密着性を有する電気めっきプロセス
      (石原ケミカル) ○田中雄也、山本和志、山村岳司、吉澤章央

  • 研究奨励賞 3件
    1. 白金電析時の水素共析に及ぼす吸着水素の影響
      (兵庫県立大) ○横山綾乃、木下剛志、福室直樹、八重真治

    2. RuO2-Ta2O5触媒を用いたリンの電気化学的定量とモリブデンブルー法との比較
      (同志社大) ○重田有佳里、川口健次、盛満正嗣

    3. シリカ系薄膜コーティングによるアルミニウム素材の防錆処理
      (奥野製薬*、大阪産技研森之宮セ**)◎谷川一平*、嶋橋克将*、加東　隆*、片山順一*、渡瀬星児**

  • 優秀ポスター発表賞 3件
    1. RuO2-Ta2O5触媒を用いた炭酸水素イオンの電気化学センシングにおける触媒組成の影響
      (同志社大) ○池谷ちなみ、本田　愛、川口健次、盛満正嗣

    2. 染色アルマイトの耐光性向上処理
      (奥野製薬) ○本郷 亜弓、森口　朋、原　健二、松浪卓史

    3. Pt粒子触媒によるSiへのヘリカルポア形成と導電性高分子の充填
      (京大*、Univ. Bordeaux**) ○松崎健太*、深見一弘*、Emilie Pouget**、北田　敦*、Reiko Oda**、邑瀬邦明

  • めっき技術奨励賞 1件
    1. Al上への電解ジンケート法とダブルジンケート法との比較
      (日本電鍍工業*、ムラタ**、府鍍金組合技研***、大阪産技研****)
      ○内野知可子*、寺内亮一*、松崎真哉**、横井昌幸***、長瀧敬行****、中出卓男****
第18回関西表面技術フォーラム（2016年11月17日～18日 甲南大学ポートアイランドキャンパス）
  • 優秀講演賞 3件
    1. 金属ナノ粒子の液相合成における析出挙動のその場測定およびナノ粒子の粒径分布制御
      (京都市産技研) 塩見 昌平

    2. 非晶質Cr-C合金めっき皮膜の摩擦摩耗特性
      (府産技研) 林 彰平

    3. 銀めっきの密着不良の原因と対策～ニッケルストライク液中不純物の影響～
      (野村鍍金) 松本 真哉

  • 研究奨励賞 2件
    1. アルミニウム合金の電解研磨によって得られる表面形状
      (岡山工技セ) 築山 訓明

    2. クロム酸を使用しない炭素繊維強化プラスチックへのメタライジング法
      (奥野製薬工業) 出口 和樹

  • 優秀ポスター発表賞 4件
    1. ナノ結晶Fe-Mn合金の電析プロセス構築
      (阪府立大) 小倉 悠

    2. 大気圧プラズマ処理を用いたフッ素樹脂の表面改質におけるプロセスガス加熱の効果
      (阪大院) 小玉 欣典

    3. 銅(II)-乳酸系Cu2O薄膜電析浴中の錯体種
      (京大院) 陳 天羽

    4. ミストCVD法による炭化モリブデン薄膜の成膜と評価
      (京大) 吉田 拓司

  • めっき技術奨励賞 2件
    1. セラミック基板への表裏差厚Auめっき方法の検討
      (太洋工作所) 小川 祐輔

    2. 基材選択性に優れたダイレクトめっきプロセスの特性評価
      (上村工業) 米田 拓也
第17回関西表面技術フォーラム（2015年11月26日～27日 甲南大学ポートアイランドキャンパス）
  • 優秀講演賞 3件
    1. 低加速入射電子を用いた酸化物被覆電極の最表面観察と電気化学反応解析への応用
      (同志社大学) 川口 健次

    2. 硫化物分散型鉛フリー銅合金CAC411中の硫化物が及ぼすめっきへの影響
      (滋賀県東北部工業技術センター) 安田 吉伸

    3. クロムフリーアルミニウム合金用化成処理
      (奥野製薬工業) 保田 徳

  • 研究奨励賞 2件
    1. 電気Bi合金めっき皮膜の特性評価
      (石原ケミカル) 山本 和志

    2. マグネシウム合金チップへのカーボン修飾と疲労特性
      (広島工業大学) 山中 将伍

  • 優秀ポスター発表賞 3件
    1. 電析アルミニウムの機械的特性に及ぼす合金化の影響
      (大阪府立大学) 久間千早希

    2. 高電流密度特性に優れた水素／空気二次電池用正極の開発
      (同志社大学) 照井 信太郎

    3. 機能性無機ナノ結晶表面上での多孔性有機金属錯体の形態制御
      (甲南大学) 大橋 卓史

  • めっき技術奨励賞 2件
    1. 硬質クロムめっきにおける水素脆性による金属への影響
      (エフテックス) 藤田 翼

    2. PC/ABS樹脂成形材料別の最適なエッチング条件
      (太洋工作所) 傅 兪傑
第16回関西表面技術フォーラム（2014年11月27日～28日 甲南大学ポートアイランドキャンパス）
  • 優秀講演賞 3件
    1. 非晶質Ta2O5相中にRuO2ナノ粒子を分散した触媒層の作製と金属電解採取用陽極への応用
      (同志社大学) 〇張 天

    2. 平滑性に優れる銅素材への黒色化処理の応用
      (奥野製薬工業) 〇喜多 あずさ

    3. ノーシアン浴から得られたCu-Sn合金めっき皮膜の特性
      (奥野製薬工業) 〇辻本 貴光

  • 研究奨励賞 2件
    1. 電気化学的手法による樹脂のメタライズおよび回路形成
      (甲南大学) 〇木村 祐介

    2. 非晶質Cr-C合金めっき皮膜の各種酸に対する耐食性
      (阪府産技研) 〇林 彰平

  • 優秀ポスター発表賞 3件
    1. 水溶液プロセスによる三次元周期多孔構造をもつエピタキシャル ZnO 膜の作製
      (京都大学) 〇楢原 直人

    2. 金属イオンドープポリイミド上での多孔性有機金属錯体形成
      (甲南大学) 〇熊野 未里

    3. ナノ細孔を用いた亜鉛デンドライト抑制効果と錯体種の関係
      (京都大学) 〇鈴木 湧也
第15回関西表面技術フォーラム（2013年11月28日～29日 岡山大学津島キャンパス　創立50周年記念館）
  • 優秀講演賞 3件
    1. 電析バルクナノ結晶Ni-W合金の機械的特性に対する配向性の影響
      (大阪府立大学) ○松井 功

    2. 無電解銅めっき触媒層に用いる有機-無機ハイブリッド薄膜の開発
      (奥野製薬工業) ○手嶋 彩由里

    3. 電気Biめっき皮膜の特性評価
      (石原ケミカル) ○吉澤 章央

  • 研究奨励賞 2件
    1. スルファミン酸ニッケルめっき液のpH安定化
      (旭鍍金) ○岡 星馬

    2. ミクロ多孔質電極内の金属析出挙動における共存イオン種の影響
      (京都大学) ○幸田 吏央

  • 優秀ポスター発表賞 3件
    1. IL部位を有したシランカップリング剤によるPDMS表面処理技術の構築
      (岡山大学) ○福田 剛大

    2. 高分子材料と無機材料の表面活性化接合
      (京都大学) ○塚本 泰介

    3. 電析バルクナノ結晶Fe-Ni合金の引張強度と延性
      (大阪府立大学) ○川勝 智
第14回関西表面技術フォーラム（2012年11月29日～30日 京都大学宇治キャンパスおうばくプラザ）
  • 優秀講演賞 3件
    1. 油水界面に形成された単粒子層の電場印加による構造変化
      (京大エネ理工研)　 ○土屋聖人,小澤大知,深見一弘,尾形幸生,(ノルウェー科技大)Gisle Oye,(京大工)作花哲夫

    2. フローリアクターを用いた化学浴析出法による高配向 CdS 薄膜の作製
      (京大)　 ○赤坂一行,伊藤和紀,三宅正男,土井俊哉,平藤哲司

    3. めっきに適した新規鋳造用アルミニウム合金の開発
      (サーテック永田) ○永田教人, 井端千恵,(光軽金属工業)金築秀樹,河合定夫,(岡山工技セ)村上浩二,日野実,（岡山理大）金谷輝人

  • 研究奨励賞 2件
    1. 各種光沢剤の電析バルクナノ結晶Ni-Wにおける機械的特性への影響
      (大阪府大) ○松井 功,瀧川順庸,上杉徳照,東　健司

    2. 下地めっき層が３価クロムめっき皮膜の耐食性へ与える影響
      (奥野製薬工業) ○西井彰宏,辻林秀孝

  • 優秀ポスター発表賞 3件
    1. 多層膜を前駆体としたFe-Pt薄膜磁石のウェットプロセス形成
      (奈良高専) ○石田拓也,藤田直幸, (大阪市工研)池田慎吾,(EEJA)伊東正浩,(長崎大)中野正基

    2. ポリイミドへのCo-Ce-O薄膜の無電解析出
      (奈良高専) ○西村佳那子,藤田直幸 (大阪市工研)品川勉,池田慎吾,(長岡技科大)松原浩,(東北学院大)薮上信

    3. ミクロ多孔質シリコンへの白金電解析出に伴う置換析出の寄与
      (京大エネ理工研) ○小山輝, 幸田吏央,深見一弘，尾形幸生(京大工) 作花哲夫
第13回関西表面技術フォーラム　2012年11月29日～30日　キャンパスプラザ京都
  • 優秀講演賞 3件
    1. 金属－酸化物同時無電解析出法によるCo-Ce-Oコンポジット薄膜の作製
      (奈良高専)　 ○福井 斉, 西村 佳那子,平井 誠,藤田直幸, (大阪市工研)小林靖之,千金正也,藤原裕

    2. Pt電析膜中の水素とその効果
      (兵庫県立大)　 ○久永尚哉, 福室直樹,八重真治,松田 均

    3. 酸化亜鉛膜を用いた銀めっき皮膜の変色防止処理
      (奥野製薬工業)　 ○青木智美, 片山順一, (甲南大)縄舟秀美

  • 研究奨励賞 2件
    1. テンプレート電析法による多孔質アルミニウムの作製と孔径制御
      (京大)　 ○西尾峻一, 三宅正男,平藤哲司

    2. クロム酸中での各金属の溶解挙動
      (オテック)　 ○北田知己, 森本泰行,野中康裕, (阪府産技研)中出卓男,森河 務

  • 優秀ポスター発表賞 3件
    1. 電気化学リソグラフィーによるポリイミド基板上への金属ダイレクトパターニング
      (甲南大)　 ○福本ユリナ, 鶴岡孝章,縄舟秀美,赤松謙祐, (トヨタ自動車) 柳本 博

    2. 金ナノ粒子・多孔性配位高分子複合薄膜の作製
      (甲南大)　 ○川崎紘子, 鶴岡孝章,縄舟秀美,赤松謙祐

    3. 水溶液プロセスによるエピタキシャル ZnO 膜の電気的特性
      (京大)　 ○福井宏史, 三宅正男,平藤哲司
第12回関西表面技術フォーラム　（2010年12月2日～3日 京都大学宇治キャンパスおうばくプラザ）
  • 優秀講演賞 3件
    1. 精密電鋳プロセスに対応したインバー合金電析膜の作製
      (京都市産技研) ○山本貴代，永山富男，中村俊博，水谷　泰

    2. 環境調和型スペキュラム(CuSn)合金めっきの電析およびその耐変色性
      (メテック北村) ○佐藤基承，中井庸司，(京都市産技研) 中村俊博，永山富男，山本貴代，水谷　泰
      (大和化成研)河口桂子，北村慎吾，(甲南大フロンティアサイエンス)縄舟秀美

    3. 低熱膨張インバー合金めっきによる高精細メッシュの作製及び物性評価
      (大和電機工業) ○野口　真，名取勇太，倉科　匡，(京都市産技研) 永山富男，山本貴代，中村俊博，水谷　泰

  • 研究奨励賞 2件
    1. 多孔質シリコンを鋳型とした表面増強ラマン散乱活性な金ナノロッドの作製
      (京大エネ理工研) ○宮川竜平，Mohamed　L.Chourou，深見一弘，作花哲夫，尾形幸生

    2. 規則的ミクロ構造を有する酸化チタン膜の作製
      (近畿大院) ○八尾　佑，(近畿大リエゾンセ)堀川袷志，(近畿大理工)岩崎光伸，野間直樹

  • 優秀ポスター発表賞 4件
    1. 多孔質シリコンへの金属めっき：親水・疎水化処理の影響
      (京大エネ理工研) ○幸田吏央，浦田智子，深見一弘，作花哲夫，尾形幸生

    2. 電鋳技術を適用した両面研磨用極薄キャリアの開発
      (立命館大) ○村田順二，谷　泰弘，宇田隆三，張　宇，(東京大)楠本丈朗

    3. 電解析出法による高延性を示すバルクナノ結晶Niの作製
      (大阪府大工) ○松井　功，瀧川順庸，上杉徳照，東　健司

    4. 電析Co-Ni合金膜の構造と水素　～硫酸浴と塩化物浴の比較～
      (兵庫県立大) ○山田一輝，福室直樹，八重真治，松田　均
第11回関西表面技術フォーラム　（2009年12月1日～2日 甲南大学フロンティアサイエンス学部）
  • 優秀講演賞 3件
    1. 湿式法によるNiナノ粒子分散ポリイミド樹脂の微細構造制御
      (立命館大)○藤岡大毅，池田慎吾，小島一男，松岡政夫

    2. 微細部品バレルめっきのくっつき改善
      (友電舎)○須古庸平，伊藤浩修，中本雅友，古川　宏，都　保

    3. Fe2+を用いたCr6+排水の処理方法の確立
      (フソー)○坂本 静，吉岡秀浩，戎　修士

  • 研究奨励賞 2件
    1. PETフィルムへの高密着性めっき皮膜の形成
      (大和電機工業) ○浅川大介，倉科　匡

    2. クロムフリー黒色無機顔料の開発とその応用
      (奥野製薬工業) ○蔭久輝彦，加東　隆，村橋浩一郎

  • 優秀ポスター発表賞 3件
    1. シリコンに形成したメソ孔への貴金属置換析出
      (京大エネ研) ○宮川竜平，深見一弘，作花哲夫，尾形幸生

    2. 化学溶液析出法を用いたZnO系薄膜の形成
      (豊橋技科大) ○ 草野雄也，笹野順司，井上光輝，伊崎昌伸　(大阪市工研)品川　勉

    3. Ag錯体水溶液からの電気化学的プロセスによるAg2O薄膜の形成
      (豊橋技科大 ) ○大畑達哉，笹野順司，井上光輝，伊崎昌伸
第10回関西表面技術フォーラム　（2008年12月2日～3日 甲南大学　先端生命工学研究所（FIBER））
  • 優秀講演賞 3件
    1. シリコンに形成したメソ孔への水溶液からの銅の電析
      (京都大) ○深見一弘，田中祐輝，モハメド L. シュールー，作花哲夫，尾形幸生

    2. パルス電解によるパターニング型HAp固着アノード酸化Ti厚膜材の作製
      (近畿大理工) ○玉川泰裕，工藤浩棋，島田和季，岩崎光伸，伊藤征司郎，野間直樹

    3. 3価クロムめっき皮膜の耐食性に与える防錆処理の効果
      (奥野製薬工業) ○中村　要，永峯伸吾，片山順一

  • 研究奨励賞 2件
    1. シリコンの金属援用HFエッチングにおけるPdの特異な挙動
      (兵庫県立大) ○田代雅之，平野達也，福室直樹，八重真治，松田　均

    2. 黒色3価クロム化成皮膜外観に及ぼす亜鉛めっき電流密度の影響
      (ムラタ) ○杉岡　恵

  • 優秀ポスター発表賞 4件
    1. 金属錯体を用いた金属ナノ粒子／ポリマー複合薄膜の作製および微細構造制御
      (甲南大理工) ○熊崎祥太，逢坂育代，赤松謙祐，縄舟秀美

    2. 混成電位制御によるCuナノ粒子の選択的析出
      (京都大院工) ○中西英貴，八木俊介，市坪　哲，松原英一郎

    3. 陽極酸化処理によるAZ系マグネシウム合金の機械的性質の変化
      (岡山理大) ○中新茂樹，引野修次，金谷輝人　(岡山県工技セ) 村上浩二，日野　実，(堀金属表面処理工業)西條充司

    4. 水溶液電析法を用いたZnOナノ構造体の作製
      (同志社大) ○古橋啓太，稲葉　稔，田坂明政　(大阪市工研)品川　勉，千金正也
第9回関西表面技術フォーラム　（2007年12月11日～12日 近畿大学11月ホール小ホール）
  1. ENIGプロセスにおける無電解Ni-P皮膜中のP含有率とはんだ接合性
    (奥野製薬工業) ○鈴木宏明，田邉靖博，下地輝明，松浪卓史

  2. Snめっきにおけるウィスカ成長とPbの抑制効果
    (岡山県工技セ) ○岡野雅子，日野　実，村上浩二，水戸岡豊，(オーエム産業) 高見沢政男，(愛媛大)仲井清眞

  3. 還元拡散によるCu薄膜のCu-Sn合金化
    (京都大院工) ○伊藤　輝，邑瀬邦明，一井　崇，杉村博之
第8回関西表面技術フォーラム　（2006年12月7日～8日 近畿大学11月ホール小ホール）
  1. 構造化されたPtNi合金微粒子の作製
    (阪府産技研) ○西村　崇，森河　務，横井昌幸，(大阪府大)井上博史

  2. ITOナノ粒子ペーストによる透明導電性薄膜の回路形成
    (奥野製薬工業) ○竹村康孝，(巴製作所)古田晋也，(大阪市工研)柏木行康，山本真理，中許昌美

  3. 銅微細配線の形成を目的とするマイクロコンタクトプリンティングの応用
    (甲南大) ○尾山祐斗，赤松謙祐，縄舟秀美
第7回関西表面技術フォーラム　（2005年12月6日～7日 　立命館大学びわこ･草津キャンパス）
  1. 工業用純アルミニウムへのジンケート処理と無電解ニッケル-リンめっき皮膜の密着性
    (岡山県工技セ) ○村上浩二，日野　実，平松　実，(京大)長村光造，(岡山理科大)金谷輝人

  2. Fe-W合金めっき皮膜の熱特性
    (野村鍍金) ○濱田隆弘，石田幸平，池田篤美，(阪府産技研)中出卓男，森河務

  3. 電解析出ZnOの電気的特性の評価
    (立命館大理工) ○大谷慎士，松岡政夫
第6回関西表面技術フォーラム　（2004年12月7日～8日 　立命館大学びわこ・草津キャンパス）
  1. ABSアロイ系樹脂を用いたクロム酸エッチングフリーめっきと密着メカニズム*
    (奥野製薬工業) ○長尾敏光，佐藤一也，徳田勇治，中岸　豊

  2. p型Cu2O膜の光誘起化学析出
    (同志社大院工) ○水野高太郎，稲葉稔，田坂明政，(大阪市工研)伊崎昌伸，品川　勉，千金正也，(京大院工)邑瀬邦明，粟倉泰弘

  3. AZ91Dマグネシウム製品への導電性陽極酸化処理の開発
    (堀金属表面処理工業) ○西條充司，(岡山工技セ)日野実，平松実，村上浩二，(岡山理科大)金谷輝人
*：電気鍍金研究会創立五十周年記念特別賞
第5回関西表面技術フォーラム　（2003年12月3日～4日 　京都大学宇治キャンパス）
  1. クロムめっきにおけるアノード特性
    (オテック) ○宮阪一郎，(阪府産技研)中出卓男，森河　務

  2. Co(Ⅱ)化合物を還元剤とする中性無電解銅めっき浴の無隔膜電解再生
    (甲南大) ○森川祐司，赤松謙祐，縄舟秀美，(液晶千躰技術開発センター)中村弘喜

  3. ヒドラジンを還元剤とする無電解純ニッケルめっきの物性制御
    (姫路工業大) ○横山敦之，濱田隆弘，伊藤　潔，福室直樹，八重真治，松田　均
第4回関西表面技術フォーラム　（2002年12月10日～11日 　京都大学宇治キャンパス）
  1. 室温強磁性透明半導体の溶液化学的形成
    (同志社大工) ○瀧野敦史, 田坂明政，(大阪府立高専)藤田直幸，(大阪市工研) 伊崎昌伸

  2. 高反応性金ナノ粒子の合成とアミド結合形成による固体基板への固定化
    (甲南大理工) ○長谷川潤，池田慎吾，赤松謙祐，縄舟秀美，(神戸大学工学部)片山博之，小澤文幸

  3. 環境対応めっきプロセスについて
    (奥野製薬工業) ○今村真琴，岡田純，佐藤一也
第3回関西表面技術フォーラム　（2001年12月4日～5日 　甲南大学）
  1. 泳動電着法によるバインダーフリー炭素材料膜の作製とリチウム二次電池用負極への応用
    (シャープ) ○宇井幸一

  2. シリコン基板上への光アシストによるニッケル析出
    (京大エネ研) ○笹野順司，作花哲夫,尾形幸生，(エアランゲン大)Patrik Schmuki

  3. 金属－酸化物同時電析法で作製したグラニュラ薄膜の構造と磁気特性
    (大阪府立高専)森　雄介，○藤田直幸，(大阪市工研) 伊崎昌伸，(豊橋技科大) 井上光輝
第2回関西表面技術フォーラム　（2000年12月12日～13日　甲南大学）
  1. ULSI銅微細配線の形成を目的としたコバルト(Ⅱ)化合物を還元剤とする中性無電解銅めっきの析出機構
    (甲南大理)○小幡雄一郎，縄舟秀美，水本省三，(松下テクノリサーチ)村上義樹

  2. オゾンによるステンレス鋼の表面電荷特性の改質と易洗浄化処理
    (岡山県工技セ) ○福崎智司，浦野博水，竹原淳彦，平松実

  3. 低汚染型アクリルシリコン塗料の表面分析
    (鐘淵化学工業) ○松尾陽一

（第2回関西表面技術フォーラムで創設）